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本標準規定了真空技術方面的一般術語、真空泵及有關術語、真空計術語、真空系統及有關術語、檢漏及有關術語、真空鍍膜技術術語、真空干燥和冷凍干燥術語、表面分析技術術語和真空冶金術語。 本標準適用于真空技術方面的技術文件、標準、書籍和手冊等有關資料的編寫。
GB/T 5907的本部分界定了與火災調查有關的常用術語和定義。本部分適用于火災調查、消防管理、消防標準化、消防科學研究、教學、咨詢、出版及其他有關的工作領域。
本標準規定了用兩種紅外光譜法對生膠、硫化膠、未硫化膠及熱塑性彈性體進行鑒定的方法。第一種方法是透射分析法。第二種方法是反射分析法。使用反射分析法(衰減全反射ATR)和透射分析法(薄膜)得到的光譜比較圖參見附錄A。反射分析法和透射分析法都包括了使用橡膠的熱解產物進行測定,或者通過薄膜法對溶液制膜或模壓制膜(只限生膠)進行紅外分析。典型的紅外光譜圖參見附錄B。本方法應由有試驗經驗人員進行樣品的制備和紅外光譜的分析。為獲得更好的結果,按照產品說明書操作光譜儀。本標準中不包括紅外光譜儀的詳細操作說明。本方法僅適用于定性分析。
本標準規定了金屬覆蓋層厚度的一種測量方法。該方法是首先在覆蓋層表面和基體金屬表面之間形成一個臺階,然后應用輪廓記錄儀測量臺階的高度。本標準具體規定了儀器的特性以及輪廓儀法的特殊測量規程。 本方法適用于測量平表面上厚度0.01μm~1000μm的金屬覆蓋層厚度,如果采取適當措施,也可以測量圓柱表面。它非常適合于微小厚度的測量,但對厚度小于0.01μm的工作表面平直度、平滑度的要求非常嚴格,因此建議不要在電子觸針式儀器的低厚度范圍內采用本標準。本方法適用于制備覆蓋層厚度標準片厚度的測量。
本標準規定了分析儀器常用的基本術語以及電化學式分析儀器、光學式分析儀器、熱學式分析儀器、質譜儀器、波譜儀器、色譜儀器、能譜和射線分析儀器、物性分析儀器、其他分析儀器及其輔助裝置的術語和定義。本標準適用于分析儀器。本標準中方括號[]內的字是在不致混淆情況下,可省略的詞;圓括號()內的字除說明外,為前者的同義語。
本標準規定了用電子探針對金屬及合金的化學成分進行定量分析的方法。本標準適用于金屬和合金試樣立方微米尺度的微區成分分析,分析元素的范圍是<上標11>Na~<上標92>U。本標準也適用于用配置了波譜儀的掃描電子顯微鏡對金屬及合金做定量分析。
本標準規定了X射線光電子能譜(XPS、X-ray Photoelectron Spectroscopy 或ESCA,Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)的一般表面分析方法以及相關的表面化學分析術語的含義,適用于X射線光電子能譜儀。
本標準規定了稀土化合物的比表面和測定方法。 本標準適用于稀土化合物比表面積的測定。測定范圍:0.20m<上標2>/g~300m<上標2>/g。 本標準所測表面積為粉末的總表面積,包括氮分子可進入粉末體的任何開孔表面積。
本標準規定了由氧化物組成的耐火材料和陶瓷的化學分析方法,用熔鑄玻璃片方法制樣,X射線熒光光譜(以下簡稱XRF)測定。本標準適用于第3章列出的材料類型,其他耐火材料類型可參考使用。
本標準規定了一種用于一般分析目的時校準X射線光電子能譜儀結合能標尺的方法,該譜儀使用非單色化Al或Mg X射線或單色化Al X射線。它僅適于帶有濺射清潔用的離子槍的儀器。本標準還進一步規定了一種方法,用以建立校準程序、在中間某一能量值測試結合能標尺線性度、在高低結合能區各取一點確認標尺校準的不確定度、對標尺的小漂移作修正以及規定在95%置信度時該結合能標尺校準的擴展不確定度。這個不確定度包括來自實驗室際研究中觀察到的現象的貢獻,但不涵蓋所有可能發生的缺陷。本標準不適用有下述情況的儀器:結合能標尺的誤差隨能量明顯非線性變化、工作在固定減速比模式且減速比小于10、譜儀的分辨率差于1.5 eV或者要求容差極限為±0.03 eV或更小。本標準不提供全標尺校準檢驗,該檢驗要對每一個在能量標尺上能找到的點加以驗證,需按儀器制造商的推薦程序進行。
本標準規定了金屬原位統計分布分析方法的術語、基本原理及對儀器設備、樣品、分析步驟等的一般要求。本標準適用于制(修)訂金屬原位統計分析方法的標準。其他相關標準亦可參照使用。
1.1本標準規定了硅和外延片表面Na,Al、K和Fe的二次離子質譜檢測方法。本標準適用于用二次離子質譜法(SIMS)檢測鏡面拋光單晶硅片和外延片表面的Na,Al、K和Fe每種金屬總量。本標準測試的是每種金屬的總量,因此該方法與各金屬的化學和電學特性無關。1.2本標準適用于所有摻雜種類和摻雜濃度的硅片。1.3本標準特別適用于位于晶片表面約5 nm深度內的表面金屬沾污的測試。1.4本標準適用于面密度范圍在(l0
本標準規定了X射線光電子能譜儀的檢定方法。本標準適用于使用非單色化Al或Mg X射線或單色化Al X射線,且帶有濺射清潔用離子槍的X射線光電子能譜儀的檢定。
警告——GB/T 25915的本部分的應用可能涉及有害材料、作業和設備。GB/T 25915的本部分未提及與應用有關的所有安全性問題。使用前,GB/T 25915本部分的用戶有責任制定適當的安全和衛生措施,并遵守各種強制性規定。GB/T 25915的本部分規定了潔凈室和潔凈區空氣懸浮粒子潔凈度等級的檢測方法,以及潔凈室和潔凈區性能的檢測方法。性能檢測針對是空態、靜態和動態3種可能的占用狀態下的單向流和非單向流型式潔凈室和潔凈區。本文件推薦了測定性能參數用檢測儀器和檢測規程。某些檢測方法受限于潔凈室或潔凈區類型,為此,本文件推薦了若干代替方法。為了滿足不同用戶的要求,對于某些檢測項目,本文件推薦了幾種不同的方法和儀器。若需方與供方協商同意,也可以使用本部分未介紹的其他替代方法。替代方法未必給出相同的測量結果。本部分不適用于測量潔凈室或隔離裝置內的產品或工藝。
本標準規定了以電子束為激發源的俄歇電子能譜(AES,Auger Electron Spectroscopy)的一般表面分析方法。本標準適用于俄歇電子能譜儀。
本標準規定了常規分析中一種評估X射線光電子能譜儀強度標的重復性和一致性的方法,采用非單色Al/Mg或單色Al X射線源。本標準只適用于裝有濺射離子槍的儀器。本標準不做強度/能量響應函數的校準。此校準應由儀器制造廠家或其他合格機構完成。本標準提供的數據用于評估和確認儀器使用期間強度/能量響應函數保持恒定的準確度。本標準提供了一些可能會影響一致性的儀器設置指導意見。
本標準規定了表面化學分析樣品的處理和存放容器的要求。本標準適用于表面化學分析設備的用戶了解表面化學分析技術的特殊樣品處理要求,特別是俄歇電子能譜(AES)、二次離子質譜(SIMS)和X射線光電子能譜(XPS或ESCA)。本標準也適用于對表面組成敏感的其他分析技術,如TXRF.對于特定的實例,特定的樣品,需要更加注意。
本標準規定了衛星研制全過程所需進行的各項防污染工作項目及其技術要求、本標準適用于整星的研制,分系統及組件(含設備、部件)也可參照使用、
針對于常規分析使用的電子槍能量至少為2 keV的俄歇電子能譜儀,本標準規定了一種評估其強度標的重復性和恒定性的方法。它僅適用于配備了濺射清潔用離子槍的儀器。本標準并非旨在成為一種強度/能量響應函數的校準,這種校準可由儀器廠商或者其他機構制定。本方法提供數據以評估和確認儀器使用中強度/能量響應函數保持恒定的精度,對可影響這種恒定性的一些儀器設置給出了指導。
本標準規定了用于表面元素和化學態分析的俄歇電子能譜的動能標校準方法。并且還規定了校準日程安排,用于在中間某一能量值測試動能標線性、在高低動能區各取一點確認標尺校準的不確定度、校正標尺小漂移以及規定在95%置信度時該動能標校準的擴展不確定度(這個不確定度包括實驗室之間研究中觀察到的各種現象,但不涵蓋所有可能的缺陷)。本標準僅適用于配備濺射清潔離子槍的儀器。不適用于以下情況的儀器:動能標尺的誤差隨能量明顯非線性變化;工作于譜儀的相對分辨率低于0.2%的固定△E/E模式或固定△E為1.5 eV模式時,要求容差極限為±0.05 eV或更小。也不適用于電子槍不能在5 keV~10 keV能量范圍操作的儀器。本標準不提供全標尺校準檢驗,該檢驗要對每一個在能量標尺上能設定的點加以驗證,且應按儀器制造商的推薦程序進行。
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