二次離子質譜(SIMS)

二次離子質譜(SIMS)項目報價？??解決方案？??檢測周期？??樣品要求？

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　　標準分類中，sims涉及到分析化學、光學和光學測量、微生物學、半導體材料、醫療設備。

　　在中國標準分類中，sims涉及到基礎標準與通用方法、化學、半金屬與半導體材料綜合、基礎標準與通用方法、基礎學科綜合、一般與顯微外科器械、輕金屬及其合金分析方法、基礎標準與通用方法、光學計量儀器。

　　日本工業標準調查會，關于sims的標準

　　JIS K0169-2012 表面化學分析.二次離子質譜(SIMS).帶多重亞鉛層對照物的深度分辨率參數估算方法

　　JIS K0169-2012 表面化學分析.二次離子質譜(SIMS).帶多重亞鉛層對照物的深度分辨率參數估算方法

　　美國材料與試驗協會，關于sims的標準

　　ASTM E1880-2012 用次級離子質譜法 (SIMS) 進行組織低溫截面分析的標準實施規程

　　ASTM E1881-2012 用次級離子質譜法 (SIMS) 對細胞培養分析的標準指南

　　ASTM E1162-2011 報告次級離子質譜分析法(SIMS)中濺深深度文件數據的標準操作規程

　　ASTM E1438-2011 使用SIMS測量濺鍍深度剖面接口寬度的標準指南

　　ASTM E1881-2006 用次級離子質譜法(SIMS)進行細胞培養分析的標準指南

　　ASTM E1880-2006 用次級離子質譜法(SIMS)進行組織低溫截面分析的標準實施規程

　　ASTM E1635-2006(2011) 次級離子質譜法(SIMS)成像數據報告標準規程

　　ASTM E1438-2006 用次級離子質譜法(SIMS)測量深度摻雜分布界面寬度標準指南

　　ASTM E1504-2006 次級離子質譜法(SIMS)中質譜數據報告的標準實施規程

　　ASTM E1635-2006 報告次級離子質譜法(SIMS)成像數據用標準實施規程

　　ASTM E1162-2006 報告次級離子質譜法(SIMS)中濺射深度截面數據的標準實施規程

　　ASTM E2426-2005 用SIMS測量同位素比率對脈沖計算系統死時間測定的標準實施規程

　　ASTM F1617-1998 用次級離子質譜測定法(SIMS)測定表面鈉,鋁,鉀-硅和EPI襯底的標準試驗方法

　　ASTM E1880-1997(2002) SIMS組織低溫部分分析的標準操作規程

　　ASTM E1881-1997 SIMS細胞培養分析的標準指南

　　ASTM E1881-1997(2002) SIMS細胞培養分析的標準指南

　　ASTM E1880-1997 SIMS組織低溫部分分析的標準操作規程

　　ASTM E1504-1992(2001) 次級離子質譜(SIMS)測定中質譜數據報告的標準規范

　　ASTM E1505-1992(1996) 根據離子移植外標物測定 SIMS 有關敏感因素的標準指南

　　ASTM E1504-1992(1996) 次級離子質譜(SIMS)測定中質譜數據報告的標準規范

　　ASTM E1505-1992(2001) 根據離子移植外標物測定 SIMS 有關敏感因素的標準指南

　　ASTM E1438-1991(2001) 用次級離子質譜法(SIMS)測量濺射深度成形界面的寬度

　　ASTM E1438-1991(1996) 用次級離子質譜法(SIMS)測量濺射深度成形界面的寬度

　　ASTM E1162-1987(1996) 二次離子質譜法(SIMS)中報告濺射深度截面數據

　　ASTM E1162-1987(2001) 二次離子質譜法(SIMS)中報告濺射深度截面數據

　　德國標準化學會，關于sims的標準

　　DIN 13133-1-2005 醫療儀器.Sims型彎形子宮剪.第1部分:不含硬質合金鑲片