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X射線光電子能譜項(xiàng)目報(bào)價???解決方案???檢測周期???樣品要求? |
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標(biāo)準(zhǔn)分類中,射線能譜涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、犯罪行為防范、光學(xué)和光學(xué)測量、光學(xué)設(shè)備、紙和紙板、藝術(shù)和手工藝品、土質(zhì)、土壤學(xué)、水質(zhì)、輻射測量、計(jì)量學(xué)和測量綜合、物理學(xué)、化學(xué)、無損檢測、有色金屬、核能工程、廢物、電子元器件綜合、天文學(xué)、大地測量學(xué)、地理學(xué)。
在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中,射線能譜涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、綜合測試系統(tǒng)、造紙綜合、犯罪鑒定技術(shù)、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、紙、工藝美術(shù)品、土壤環(huán)境質(zhì)量分析方法、化學(xué)、水環(huán)境有毒害物質(zhì)分析方法、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、土壤、水土保持、、電子元件綜合、光學(xué)測試儀器、貴金屬及其合金、核材料、核燃料及其分析試驗(yàn)方法、顏料、輻射防護(hù)儀器、水產(chǎn)、漁業(yè)綜合、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理、核反應(yīng)堆與核電廠核島設(shè)備、半導(dǎo)體分立器件綜合。
市場監(jiān)督管理總局、中國標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告
質(zhì)檢總局,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告
GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則
GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
GB/T 30702-2014 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實(shí)驗(yàn)測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南
GB/T 29556-2013 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定
GB/T 28893-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果所需的信息
GB/T 28892-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述
GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
GB/T 28633-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
GB/T 25185-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告
GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法
GB/T 2679.11-2008 紙和紙板 無機(jī)填料和無機(jī)涂料的定性分析.電子顯微鏡/X射線能譜法
GB/T 19267.6-2008 刑事技術(shù)微量物證的理化檢驗(yàn) 第6部分:掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
GB/T 18873-2008 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線能譜定量分析通則
GB/T 17507-2008 透射電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣的通用技術(shù)條件
GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
GB/T 18873-2002 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線 能譜定量分析通則
GB/T 17723-1999 黃金制品鍍層成分的X射線能譜測量方法
GB/T 17507-1998 電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣通用技術(shù)條件
GB/T 17362-1998 黃金飾品的掃描電鏡X射線能譜分析方法
GB/T 17361-1998 沉積巖中自生粘土礦物掃描電子顯微鏡及X射線能譜鑒定方法
GB/T 17359-1998 電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則
GB/T 2679.11-1993 紙和紙板中無機(jī)填料和無機(jī)涂料的定性分析 電子顯微鏡/X射線能譜法
GB/Z 32490-2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
GB/T 17362-2008 黃金制品的掃描電鏡X射線能譜分析方法
中華人民共和國質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 33502-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜(XPS)數(shù)據(jù)記錄與報(bào)告的規(guī)范要求
英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
BS ISO 14701-2018 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜學(xué). 二氧化硅厚度測量
BS ISO 18554-2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
BS ISO 19830-2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的低報(bào)告要求
BS EN ISO 10703-2015 水質(zhì). 放射性核素活性濃度的測定. 采用高分辨率γ射線能譜的方法
BS ISO 17109-2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 17109-2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 18589-3-2015 環(huán)境中放射性的測量. 土壤. 采用γ射線能譜測量法的γ放射性核素的試驗(yàn)方法
BS ISO 16243-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
BS ISO 16243-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
BS ISO 20903-2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息
BS ISO 20903-2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息
BS ISO 14701-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
BS ISO 14701-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
BS ISO 10810-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
BS ISO 10810-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
公安部,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
GA/T 1521-2018 法庭科學(xué) 塑料元素成分檢驗(yàn) 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
GA/T 1522-2018 法庭科學(xué) 射擊殘留物檢驗(yàn) 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
GA/T 1520-2018 法庭科學(xué) 黑火藥、煙火藥元素成分檢驗(yàn) 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
GA/T 1519-2018 法庭科學(xué) 墨粉元素成分檢驗(yàn) 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
GA/T 823.3-2018 法庭科學(xué)油漆物證的檢驗(yàn)方法 第3部分:掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
青海省質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
DB63/T 1678-2018 唐卡中礦物顏料的測定 X射線熒光光譜法(能譜法)
標(biāo)準(zhǔn)化組織,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
ISO 15470-2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
ISO 15470-2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
ISO 18554-2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
ISO 19830-2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的低報(bào)告要求
ISO 17109-2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
ISO 16243-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
ISO 14701-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量
ISO/TS 10798-2011 納米技術(shù).使用掃描電鏡與X射線能譜分析的單臂碳納米管的特征描述
ISO 10810-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
ISO/TR 19319-2003 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
美國材料與試驗(yàn)協(xié)會,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
ASTM C1402-2017 土壤樣品高分辨率γ射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E995-2011 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-2010 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-2004 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-1994(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
JIS K0152-2014 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
JIS K0152-2014 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
JIS K0167-2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測定相對敏感因子的使用指南
廣東省質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
DB44/T 1216-2013 利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征石墨烯的特性
DB44/T 1215-2013 利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征單壁碳納米管的特性
法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
NF M60-761-2-2013 水質(zhì).第2部分:用γ射線能譜測量的試驗(yàn)方法
NF X21-073-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
NF X21-071-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
NF X21-058-2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時需要的信息
NF M60-303-1999 核能.核燃料技術(shù)-廢料.用伽碼射線能譜測定法對放射性廢料形態(tài)的放射性活度測量設(shè)施校準(zhǔn)的推薦規(guī)范
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-有色金屬,關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
YS/T 644-2007 鉑釕合金薄膜測試方法 X射線光電子能譜法 測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量
韓國標(biāo)準(zhǔn),關(guān)于射線能譜的標(biāo)準(zhǔn)
KS D ISO 19319-2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
KS D ISO 19319-2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
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