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400-635-0567Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
標準 推薦性 現行標準《電子級多晶硅中基體金屬雜質含量的測定 電感耦合等離子體質譜法》由TC203(半導體設備和材料標準化技術委員會)歸口上報及執行,主管部門為標準化管理委員會。
江蘇中能硅業科技發展有限公司 、青海黃河上游水電開發有限責任公司新能源分公司 、有研半導體材料有限公司 、宜昌南玻硅材料有限公司 、新特能源股份有限公司 、洛陽中硅高科技有限公司 。
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DB53/T 501-2013 多晶硅用三氯氫硅雜質元素含量測定 電感耦合等離子體質譜法 硅片表面金屬元素含量的測定 電感耦合等離子體質譜法